Tantala mērķis

Tantala mērķis

Tantala mērķiem piemīt tādas īpašības kā augsta tīrība, blīva struktūra un laba izsmidzināšanas stabilitāte, kas uzrāda stabilu veiktspēju augsta vakuuma un plazmas vidē. Plānās kārtiņas, kas veidotas no tantala mērķiem, uzrāda spēcīgu adhēziju, labu viendabīgumu un augstu ķīmisko stabilitāti, padarot tās plaši izmantotas plāno kārtiņu nogulsnēšanas laukos, piemēram, pusvadītājos, integrālajās shēmās, displeja paneļos un optiskajos pārklājumos.

Produkta ievads

Mūsu tantala mērķis

 

 

Izmērs

Diametrs 50-400mm X Biezums 3-28mm

Novērtējums

R05200 R05400 R05252 (Ta-2,5W) R05255 (Ta-10W)

Tīrība

Lielāks vai vienāds ar 99,95% (maksimums 99,99%)

Pārkristalizēt

vismaz 95%

Graudu lielums

Vismaz 40 um

Virsmas raupjums

Maksimālais Ra0.4

Plakanums

0,1 mm vai maksimāli 0,10%

Tolerance

Diametrs +/-0,254mm

 

Ražošanas process - elektronu staru vakuumkausēšana

 

 

Mēs izmantojam elektronu staru vakuumkausēšanu (EB) kā tantala lietņu serdes kausēšanas procesu.

Procesa priekšrocības:

● Ultra{0}}augsta vakuuma vide samazina gāzes piesārņojumu

● Lieliska skābekļa, slāpekļa, ūdeņraža un metālisku piemaisījumu noņemšana

● Ļoti viendabīga mikrostruktūra un ķīmiskais sastāvs

● Uzlabota izturība pret koroziju un kalpošanas laiks

● Lieliska konsekvence starp partijām

Šis process ir īpaši svarīgs lietojumprogrammām, kurām nepieciešama augsta tīrība,{0}}ilgtermiņa stabilitāte un ārkārtēja izturība pret koroziju.

 

 

 

Kvalitātes kontrole

 

 

Katram sūtījumam pēc pieprasījuma tiek nodrošināti dzirnavu pārbaudes sertifikāti (MTC).

  • Ķīmiskā sastāva analīze
  • Izmēru un virsmas pārbaude
  • Mehānisko īpašību pārbaude
  • Partijas izsekojamība un dokumentācija

 

 

 

ba202009161609045005127

product-800-600
product-800-600

 

Populāri tagi: tantala mērķis, Ķīnas tantala mērķa ražotāji, piegādātāji, rūpnīca

Nosūtīt pieprasījumu

whatsapp

Telefons

E-pasts

Izmeklēšana

soma